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簡要描述:ZEISS/蔡司Sigma 系列產品掃描顯微鏡結合了場發射掃描電子顯微鏡技術和高級分析性能,用于顆粒、表面和納米結構成像。Sigma 的4步半自動工作流程節省了大量的工作時間.
ZEISS/蔡司Sigma 系列產品掃描顯微鏡
結合了場發射掃描電子顯微鏡技術和高級分析性能,用于顆粒、表面和納米結構成像。Sigma 的4步半自動工作流程節省了大量的工作時間.
介紹
靈活的探測,4步工作流程,高級的分析性能
將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合,利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間:設置成像與分析步驟,提高效率。
Sigma 360 性價比高。Sigma 560 裝配的背散射幾何探測器,可快速方便地實現基礎分析。任何時間,任何樣品均可獲得準確、可重復的分析結果。
ZEISS/蔡司Sigma 系列產品掃描顯微鏡特點
用于清晰成像的靈活探測
利用優良探測術為您的需求定制 Sigma,表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器,獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器,在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環境中,從快速成像和節省培訓首先,先對樣品進行導航,然后設置成像條件。
首先,先對樣品進行導航,然后設置成像條件。
接下來對樣品感興趣的區域進行優化并自動采集圖像。最后使用工作流程的最后一步,將結果可視化。
高級分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合:Sigma 背散射幾何探測器大大提升了分析性能,特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角,獲取完整且無陰影的分析結果。
Gemini光學元件
基于成熟的 Gemini 技術
● Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響,并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
● Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率,通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
● Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪
靈活的探測
用于清晰成像的靈活探測
● 利用新的探測技術表征所有的樣品。
● 在高真空模式下利用創新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
● 在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
● 利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
● 利用 BSD4 或者 YAG 探測器進行成份分析
可視化及分析軟件
蔡司Atlas 5-挑戰多尺度分析
Atlas 5可以簡化您的工作:以樣本為中心的關聯環境下為您創建多尺度、多模式的綜合圖片。Atlas 5集強大的硬件和易于操作的軟件為一體,大大拓展了蔡司掃描電鏡(SEM)的應用范圍。
可視化及分析軟件
蔡司推薦您使用Object Research Systems (ORS) 的 Dragonfly Pro
此解決方案可為X射線,FIB-SEM,SEM以及氦離子顯微鏡獲取的三維數據進行可視化三維重構和分析。
基于Visual SI Advanced系列, Dragonfly Pro 能提供高清解析度可視化技術和優異的圖形處理技術。Dragonfly Pro支持通過簡單易用的Python腳本進行定制。用戶可以掌控3D數據后期處理環境和流程
配件
集成式 EDS 解決方案
在低能量分析應用中同時實現高清晰度成像
Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案,擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺計算機來控制 EDS 和 SEM,進而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時,借助專門為顯微鏡和 EDS 操作設計的用戶界面可實現并行控制。
• 集成化:通過集成化,結合高清晰成像與快速分析,從而獲得不錯結果
• 定制化:根據不同的用戶需求定制軟件
• 靈敏度:氮化硅窗口增強低能X射線的探測靈敏度
拉曼成像與掃描電鏡聯用系統
集成化的拉曼成像
獲取樣品中化學結構的指紋信息:聚焦拉曼光譜成像可擴展您的蔡司Sigma 360 掃描電鏡性能。 分析獲得樣品分子結構和結晶信息。 通過拉曼成像與EDS數據可進行3D 分析并與SEM圖像關聯。集成化的拉曼成像掃描電鏡聯用系統使你充分發揮SEM和拉曼系統的功能。
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